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Patents for H01L 21 - Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof (658,974)
12/2012
12/06/2012US20120305183 Semiconductor device manufacturing apparatus
12/06/2012US20120305028 Buffer units, substrate processing apparatuses, and substrate processing methods
12/06/2012US20120304935 Bubbler assembly and method for vapor flow control
12/06/2012US20120304741 Flexible amine sensor based on ultrathin poly-thiophene thin film transistor
12/06/2012DE202012102765U1 Austauschbares Behandlungsbecken für nasschemische Prozesse Interchangeable treatment tank for wet chemical processes
12/06/2012DE202012102763U1 Austauschbares Behandlungsbecken für nasschemische Prozesse Interchangeable treatment tank for wet chemical processes
12/06/2012DE112011100388T5 Verfahren und Vorrichtung zum Überführen von Chips aus einem Wafer Method and apparatus for transferring chips from a wafer
12/06/2012DE112011100159T9 Einheit mit extrem dünnem SOI mit dünnem BOX und Metallrückgate Unit with extremely thin SOI and BOX with thin metal back gate
12/06/2012DE112010005101T5 Epitaxial-wafer und halbleiterelement Epitaxial wafer and semiconductor element
12/06/2012DE112010004414T5 Soi-cmos-struktur mit programmierbarer potentialfreier rückplatte Soi-cmos structure with programmable floating back plate
12/06/2012DE112010004142T5 Verfahren zum polieren eines halbleiter-wafers A method for polishing a semiconductor wafer
12/06/2012DE112010003968T5 Einrichtung und Verfahren zum Messen einer Halbleiterträgerlebensdauer Apparatus and method for measuring a semiconductor carrier lifetime
12/06/2012DE112010003694T5 Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Epitaxialwafers Method and apparatus for manufacturing an epitaxial wafer
12/06/2012DE112009001477B4 Kostengünstige Substrate mit Hochwiderstands-Eigenschaften und Verfahren zum Herstellen derselben -Cost substrates with high-resistance properties and method of making same
12/06/2012DE112008002643B4 Plasmaverarbeitungsvorrichtung Plasma processing apparatus
12/06/2012DE10393687B4 Doppelgatehalbleiterbauelement mit separaten Gates und Verfahren zur Herstellung des Doppelgatehalbleiterbauelements Double gate semiconductor device having separate gates and method for producing the double-gate semiconductor device
12/06/2012DE10350160B4 Verfahren zur Herstellung eines Sperrschicht-Feldeffekttransistors mit hoher Durchbruchspannung A method for producing a junction field effect transistor with high breakdown voltage
12/06/2012DE10245179B4 Leitungen auf mehreren Ebenen mit reduziertem Rasterabstand und Verfahren zur Herstellung Lines on several levels with a reduced pitch and methods for preparing
12/06/2012DE102012208246A1 Halbleitervorrichtung Semiconductor device
12/06/2012DE102012208146A1 Verbindungssystem zur herstellung elektrischer verbindungen eines leistungshalbleitermoduls und verfahren zur herstellung solcher verbindungen A connection system for making electrical connections of the power semiconductor module and process for the preparation of such compounds
12/06/2012DE102012203928A1 Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung A process for producing a semiconductor device
12/06/2012DE102012104795A1 Lateraler Graben MESFET Lateral trench MESFET
12/06/2012DE102012104761A1 Verfahren zur Herstellung eines Halbleiter-Bauelements A process for producing a semiconductor device
12/06/2012DE102012104616A1 Verfahren zum Bilden einer Fensterschicht in einer Dünnschicht-Photovoltaikvorrichtung auf Cadmiumtelluridbasis A method of forming a window layer in a thin-film photovoltaic device on cadmium telluride
12/06/2012DE102012104345A1 Halbleitervorrichtung, Halbleitergehäuse und elektronische Vorrichtung A semiconductor device, semiconductor packages and electronic device
12/06/2012DE102012104048A1 Verwendung von Metall-Phosphor bei der Metallisierung von Fotoelementen und Verfahren zu deren Herstellung Use of metal-phosphorus in the metallization of photo elements and processes for their preparation
12/06/2012DE102011107890A1 Centering and/or marking device for e.g. determining symmetry center of moncrystalline silicon ingot for manufacturing solar cells, has tubes whose sides comprise pressing elements, where tubes are symmetrically spaced from axle midpoint
12/06/2012DE102011103746A1 Verfahren zum Fügen von Metall-Keramik-Substraten an Metallkörpern A method for joining metal-ceramic substrates in metal bodies
12/06/2012DE102011103412A1 Verfahren zum Herstellen eines optolektronischen Halbleiterbauelements und derartiges Halbleiterbauelement A method of manufacturing a semiconductor optoelectronic device, and such a semiconductor device
12/06/2012DE102011077005A1 Anlage zur Wärmebehandlung von Substraten und Verfahren zum Erfassen von Messdaten darin Plant for heat treatment of substrates and method for detecting measurement data therein
12/06/2012DE102011076860A1 Directional crystallization of silicon ingots, comprises charging crucible of crystallization system containing material to be processed, melting material, and setting stereometric temperature field with planar isothermal surfaces in melt
12/06/2012DE102011076742A1 Verfahren zum Ablegen einer Halbleiterscheibe auf einem Suszeptor mit einer vorgegebenen Winkelorientierung A method for depositing a semiconductor wafer on a susceptor at a predetermined angular orientation
12/06/2012DE102011076696A1 Verfahren zur Leistungssteigerung in Transistoren durch Vorsehen eines eingebetteten verformungsinduzierenden Halbleitermaterials auf der Grundlage einer Saatschicht und entsprechendes Halbleiterbauelement Performance improvement processes in transistors by providing an embedded strain-inducing semiconductor material on the basis of a seed layer and corresponding semiconductor device
12/06/2012DE102011076695A1 Transistoren mit eingebettetem verformungsinduzierenden Material, das in durch einen Oxidationsätzprozess erzeugten Aussparungen ausgebildet ist Transistors with embedded strain-inducing material that is formed in cavities created by a Oxidationsätzprozess
12/06/2012DE102011076662A1 Halbleiterbauelement und entsprechendes Herstellungsverfahren Semiconductor component and corresponding production method
12/06/2012DE102011051112A1 Verfahren zur Messung der Hochspannungsdegradation von zumindest einer Solarzelle oder eines Photovoltaik-Moduls Method for measuring the Hochspannungsdegradation of at least one solar cell or a photovoltaic module
12/06/2012DE102011050844A1 Device for treating and/or processing of substrates, has drive having drive shaft mounted on eccentric cam which upon rotation of drive shaft causes displacement of main level in direction of surface normal to main level
12/06/2012DE102011004322B4 Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements mit selbstjustierten Kontaktelementen und einer Austauschgateelektrodenstruktur A process for producing a semiconductor device with self-aligned contact elements and a replacement gate electrode structure
12/06/2012DE102010064288B4 Halbleiterbauelement mit Kontaktelementen mit silizidierten Seitenwandgebieten Semiconductor component with contact elements with silicided sidewall areas
12/06/2012DE102010017768B4 Verfahren zum Herstellen eines Halbleiter-Bauelements A method of manufacturing a semiconductor device
12/06/2012DE102009046241B4 Verformungsverstärkung in Transistoren, die eine eingebettete verformungsinduzierende Halbleiterlegierung besitzen, durch Kantenverrundung an der Oberseite der Gateelektrode Deformation amplification in transistors having an embedded strain-inducing semiconductor alloy, by rounding of the edges at the top of the gate electrode
12/06/2012DE102009044670B4 Bipolares Halbleiterbauelement und Herstellungsverfahren A bipolar semiconductor device and manufacturing method
12/06/2012DE102009006886B4 Verringerung von Dickenschwankungen einer schwellwerteinstellenden Halbleiterlegierung durch Verringern der Strukturierungsungleichmäßigkeiten vor dem Abscheiden der Halbleiterlegierung Reduce variations in thickness of a semiconductor alloy schwellwerteinstellenden by reducing the Strukturierungsungleichmäßigkeiten prior to the deposition of the semiconductor alloy
12/06/2012DE102008059498B4 Verfahren zur Beschränkung von Verspannungsschichten, die in der Kontaktebene eines Halbleiterbauelements gebildet sind Method for limiting stress layers formed in the contact plane of a semiconductor device
12/06/2012DE102008025223B4 Elektronikbaugruppe mit eingebettetem Chipbaustein und Verfahren zu ihrer Herstellung Electronic assembly with embedded chip package and process for its preparation
12/06/2012DE102007017604B4 Verfahren zur Herstellung einer Lampenreihe A method for producing a lamp series
12/06/2012DE102006055338B4 Laserstrahlbearbeitungsmaschine Laser beam processing machine
12/06/2012DE102006045271B4 Verfahren zur Herstellung eines optischen Sende- und/oder Empfangsmoduls A method of manufacturing an optical transmitting and / or receiving module
12/06/2012DE102006035630B4 Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements A method of manufacturing a semiconductor device
12/06/2012DE102005009976B4 Transistor mit Dotierstoff tragendem Metall im Source- und Drainbereich Transistor with dopant wearing metal in the source and drain regions
12/06/2012DE10066412B4 Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner Herstellung Semiconductor device and process for its preparation
12/06/2012DE10063041B4 Verfahren zum Herstellen einer integrierten Leadless-Gehäuse-Schaltung und integrierte Leadless-Gehäuse-Schaltung A method of fabricating an integrated circuit leadless package and integrated circuit leadless housing
12/05/2012EP2530786A1 Conductive connection sheet, method for connecting terminals, method for forming connection terminal, semiconductor device, and electronic device
12/05/2012EP2530747A1 Nitride semiconductor element and manufacturing method therefor
12/05/2012EP2530720A1 Manufacture methods of thin film transistor and array substrate and mask
12/05/2012EP2530718A1 Silicon carbide semiconductor device and production method therefor
12/05/2012EP2530715A2 Semiconductor device, methods of operating and manufacturing
12/05/2012EP2530714A2 Active tiling placement for improved latch-up immunity
12/05/2012EP2530712A2 Power converter and method for manufacturing power converter
12/05/2012EP2530710A2 Bonding wire, connection structure, semiconductor device and manufacturing method of same
12/05/2012EP2530709A1 Semiconductor wafer and method of producing the same
12/05/2012EP2530708A1 Flip-chip mounting structure and flip-chip mounting method
12/05/2012EP2530707A2 Method for joining metal-ceramic substrates to metal bodies
12/05/2012EP2530706A1 Method for reclaiming semiconductor wafer and polishing composition
12/05/2012EP2530705A2 Vacuum deposition apparatus
12/05/2012EP2530704A1 Bonded wafer production method
12/05/2012EP2530700A2 Method for preparing thin samples for TEM imaging
12/05/2012EP2530182A1 Film-forming method, film-forming apparatus, and apparatus for controlling the film-forming apparatus
12/05/2012EP2529882A1 Planar 3-dof stage
12/05/2012EP2529875A1 Laser processing method
12/05/2012EP2529874A1 Laser processing system
12/05/2012EP2529861A1 Synthesis of Nanoparticles comprising oxidation sensitive metals with Tuned Particle Size and High Oxidation Stability
12/05/2012EP2529418A2 Method for producing a photovoltaic cell including the preparation of the surface of a crystalline silicon substrate
12/05/2012EP2529400A2 Gcib-treated resistive device
12/05/2012EP2529397A1 Semiconductor structure having silicon cmos transistors with column iii-v transistors on a common substrate
12/05/2012EP2529396A1 Handling device for substrates using compressed air
12/05/2012EP2529395A1 Method for improving plating on non-concuctive substrates
12/05/2012EP2529394A1 Conductivity based selective etch for gan devices and applications thereof
12/05/2012EP2529393A1 Methods of forming a multi-doped junction with silicon-containing particles
12/05/2012EP2529276A1 Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the composition and pattern forming method
12/05/2012EP2528974A2 Thermally conductive silicone rubber composition
12/05/2012EP2528858A1 Environment sensitive devices
12/05/2012CN202587625U Attachment welding jig
12/05/2012CN202585513U Loading plate in LED nixie tube automatic wiring tool
12/05/2012CN202585511U Non-contact type alignment device
12/05/2012CN202585510U Diffusing quartz boat of crystalline silicone solar battery
12/05/2012CN202585509U Stable printing turner of solar silicon wafer
12/05/2012CN202585508U Silicon chip temporary storage device on silicon chip receiving and releasing device
12/05/2012CN202585507U Charging box for automatic silicon-wafer inserting machine with flower basket box
12/05/2012CN202585505U Basket with holes for cleaning silicon material
12/05/2012CN202585424U Transistor
12/05/2012CN202585421U Semiconductor structure
12/05/2012CN202585387U Structure of a heat dissipating pedestal
12/05/2012CN202585381U Pre-soaking device used for through silicon via technology
12/05/2012CN202585380U Source and drain region
12/05/2012CN202585379U Isolation area and semiconductor device
12/05/2012CN202585378U Universal suction pen against dust absorption and used for grabbing concentrating photovoltaic cell
12/05/2012CN202585377U High-strength high-precision manipulator
12/05/2012CN202585376U Combined vacuum pipette
12/05/2012CN202585375U Wafer clamp
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