CN106659594A - 用于监测和控制吸收制品转换加工生产线的系统和方法 - Google Patents
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Abstract
本公开涉及用于监测在纵向上沿转换加工设备推进的基底的方法和设备。该设备可包括通过通信网络与线扫描相机连接的分析器。分析器可被构造为现场可编程门阵列、专用集成电路、或图形处理单元。此外,线扫描相机可包括线性像素数据阵列并限定线性视场,其中线扫描相机被布置成使得线性视场沿纵向延伸。该设备还可包括照明线性视场的照明源。在操作中,沿纵向推进基底,使得基底的一部分推进穿过线性视场。继而,该设备可被构造成执行各种监测和/或控制功能。
Description
技术领域
本公开涉及用于制造一次性吸收制品的系统和方法,并且更具体地,涉及用于用分析器监测推进的基底和/或控制转换加工设备的系统和方法,该分析器接收来自被定位成具有沿纵向取向的视场的线扫描相机的反馈。
背景技术
通过将部件添加到连续的、推进的幅材材料和否则通过对该连续的、推进的幅材材料进行改造来沿着装配线装配尿布和各种类型的其它吸收制品。例如,在一些工艺中,推进的幅材材料与其它推进的幅材材料相组合。在其它示例中,由推进的幅材材料产生的单独部件与推进的幅材材料相组合,该推进的幅材材料继而与其它推进的幅材材料相组合。用来制造尿布的幅材材料和部件部分可包括:底片、顶片、吸收芯、前耳片和/或后耳片、紧固件部件、以及各种类型的弹性幅材和部件诸如腿弹性部件、阻挡腿箍弹性部件和腰弹性部件。一旦将所期望的部件部分装配好,推进的幅材和部件部分经受最终刀切以将幅材分离成离散的尿布或其它吸收制品。然后也可以对离散的尿布或吸收制品进行折叠和包装。
出于幅材控制和/或监测的目的,在构造吸收制品时,吸收制品转换加工生产线可利用各种类型的传感器技术来检测各种类型的检测数据,该各种类型的检测数据与该连续幅材和与沿转换加工生产线添加到该幅材的离散部件相关。示例性传感器技术可包括视觉系统、光电传感器、接近传感器、激光器或超声距离检测器等。可将传感器数据以各种方式传达给控制器。继而,控制器可被编程以接收传感器数据并报告和/或存储此类数据,并且对制造工艺进行调整。
在一些制造工艺中,与转换加工生产线相邻布置相机以便将与推进的幅材和部件的位置和/或取向相关的数据传达给控制器。虽然相机可检测和传达有价值的数据给控制器,但由于相对缓慢的传感器和控制回路时间,控制器可能不能够以非常高的精度跟踪推进的连续幅材和/或部件的精确位置和速度。并且此类缓慢的回路时间在一些吸收制品工艺的高速生产速率下可能加剧。因此,有益的是与控制器相结合地构造和利用视觉系统,该控制器能够检测和跟踪以相对高的生产速度推进的推进的连续幅材和/或部件的位置和速度。
发明内容
在一种形式中,一种用于制造吸收制品的方法包括以下步骤:提供线扫描相机,该线扫描相机包括像素数据线性阵列并限定线性视场;提供分析器,该分析器选自由以下项组成的组:现场可编程门阵列、专用集成电路、和图形处理单元;布置线扫描相机,使得线性视场沿纵向延伸;操作照明源以限定照明线性视场的照明场;提供包括第一表面和相反的第二表面的基底,该基底还包括第一纵向侧边缘和沿横向与第一纵向侧边缘分开的第二纵向侧边缘;沿纵向推进基底,使得第一纵向侧边缘行进穿过线性视场;将来自像素数据线性阵列的第一组像素灰度值从线扫描相机传达给分析器;以及基于至少一个像素的灰度值来确定第一纵向侧边缘的第一位置。
在另一种形式中,一种用于制造吸收制品的方法包括以下步骤:提供第一线扫描相机,该第一线扫描相机包括像素数据线性阵列并限定第一线性视场;提供第二线扫描相机,该第二线扫描相机包括像素数据线性阵列并限定第二线性视场;提供分析器,该分析器选自由以下项组成的组:现场可编程门阵列、专用集成电路、和图形处理单元;布置第一线扫描相机和第二线扫描相机,使得第一线性视场和第二线性视场沿纵向延伸;操作照明源以限定照明第一线性视场和第二线性视场的照明场;提供包括离散部件的基底,该离散部件具有沿横向的宽度,该基底还包括第一侧向侧边缘和与第一侧向侧边缘分开的第二侧向侧边缘以限定沿纵向的长度;沿纵向推进基底,使得第一侧向侧边缘和第二侧向侧边缘行进穿过第一线性视场,并且使得第一侧向侧边缘和第二侧向侧边缘行进穿过第二线性视场;从第一线扫描相机和第二线扫描相机将出自像素数据线性阵列的第一组像素灰度值传达给分析器;以及从第一线扫描相机和第二线扫描相机将出自像素数据线性阵列的第二组像素灰度值传达给分析器;以及基于至少两个像素的第一组灰度值和第二组灰度值来确定基底相对于纵向的取向。
在另一种形式中,提供了一种用于监测基底的设备,该基底包括第一表面和相反的第二表面,基底还包括第一纵向侧边缘和与第一纵向侧边缘分开的第二纵向侧边缘以限定沿横向的宽度,基底沿转换加工设备在纵向上推进,并且该设备包括:通信网络;与通信网络连接的分析器,分析器包括像素数据线性阵列并限定沿纵向延伸的线性视场,其中分析器选自由以下项组成的组:现场可编程门阵列、专用集成电路、和图形处理单元;与通信网络连接的线扫描相机,线扫描相机包括像素数据线性阵列并且限定线性视场,其中线扫描相机被布置成使得线性视场沿纵向延伸;和照明源,该照明源限定照明线性视场的照明场;并且其中分析器被构造成基于来自来源于分析器的像素数据线性阵列的一组像素灰度值来确定基底的第一纵向侧边缘的位置。
附图说明
图1为一次性吸收制品的顶部平面视图,其可包括根据本公开监测和/或控制的一个或多个基底。
图2A为带有与推进的基底相邻的传感器的检测系统的示意性等轴视图。
图2B为沿图2A的截线2B-2B截取的检测系统和推进的基底的侧视图。
图2C为沿图2B的截线2C-2C截取的检测系统和推进的基底的侧视图。
图3A为第一示意性框图,示出了与像素数据线性阵列中的百分比灰度值关联的基底的横向CD位置的一个例证。
图3B为第二示意性框图,示出了与像素数据线性阵列中的百分比灰度值关联的基底的横向CD位置的一个例证。
图3C为第三示意性框图,示出了与像素数据线性阵列中的百分比灰度值关联的基底的横向CD位置的一个例证。
图4为详细的示意性顶部侧视图,示出了推进穿过线扫描相机的视场的连续基底的纵向侧边缘。
图5A为详细的示意性顶部侧视图,示出了呈离散部件形式的推进穿过线扫描相机的视场的基底的纵向侧边缘和两个侧向侧边缘。
图5B为详细的示意性顶部侧视图,示出了来自图5A的基底穿过线扫描相机的视场的继续推进。
图5C为详细的示意性顶部侧视图,示出了来自图5B的基底穿过线扫描相机的视场的继续推进。
图6A为带有与推进的基底相邻的两个传感器的检测系统的示意性等轴视图。
图6B为沿图6A的截线6B-6B截取的检测系统和推进的基底的侧视图。
图7A为详细的示意性顶部侧视图,示出了呈离散部件形式的推进穿过两个线扫描相机的视场的基底的两个纵向侧边缘和两个侧向侧边缘。
图7B为详细的示意性顶部侧视图,示出了来自图7A的基底穿过线扫描相机的视场的继续推进。
图7C为详细的示意性顶部侧视图,示出了来自图7B的基底穿过线扫描相机的视场的继续推进。
具体实施方式
以下术语解释对理解本公开是可用的。
“吸收制品”在本文中用来指主要功能为吸收和保留污垢和排泄物的消费产品。本文所用的“尿布”是指一般被婴儿和失禁患者围绕下体穿着的吸收制品。术语“一次性的”在本文中用来描述通常不旨在洗涤、或者以其它方式复原或作为吸收制品再使用的吸收制品(例如,它们旨在在单次使用后丢弃,并且也可被构造成可回收利用、堆肥处理或以其它与环境相容的方式进行处理)。
“弹性的”、“弹性体”或“弹性体的”是指材料表现出弹性性能,它们包括如下任何材料,在向其松弛的初始长度施加力时该材料能够拉伸或伸长至比其初始长度超出10%的伸长长度,并且在释放所施加的力时将基本上恢复至大约其初始长度。
如本文所用,术语“接合”涵盖通过将元件直接附连到其它元件由此将元件直接固定到另一个元件的构型,以及通过将元件附接到一个或多个中间构件(该中间构件依次附接到其它元件上)由此将一个元件间接固定到另一个元件的构型。
“纵向”是指当制品处于平展未收缩状态时从吸收制品的端边,诸如腰部边缘到纵向相反的端边、或腰部边缘,或者在双折制品中从腰部边缘到裆的底部(即折叠线)基本上垂直延伸的方向。在纵向45度内的方向被认为是“纵向”。“侧向”是指从制品的纵向延伸的侧边缘向侧向相对纵向延伸的侧边缘延伸的方向并大体与纵向成直角。在侧向45度内的方向被认为是“侧向”。
术语“基底”在本文中用来描述主要为二维的(即在XY平面中)材料,并且其厚度(在Z方向上)与其长度(在X方向上)和宽度(在Y方向上)相比相对较小(即1/10或更小)。基底的非限制性示例包括幅材、一层或多层纤维材料、非织造材料、膜和箔片诸如聚合物膜或金属薄片。这些材料可单独使用或可包括层合在一起的两个或更多个层。因此,幅材为基底。
术语“非织造材料”在本文中是指采用诸如纺粘法、熔喷法、梳理成网等工艺由连续(长)丝(纤维)和/或不连续(短)丝(纤维)制成的材料。非织造材料不具有限定的织造或编织丝图案。
术语“纵向”(MD)在本文中用来指工艺中材料流的方向。此外,材料的相对放置和移动还可被描述为沿纵向从工艺上游至工艺下游通过工艺。
术语“横向”(CD)在本文中用来指大致垂直于纵向的方向。
本公开涉及用于监测在纵向上沿转换加工设备推进的基底的方法和设备。基底可包括第一表面和相反的第二表面、以及第一纵向侧边缘和沿横向与第一纵向侧边缘分开的第二纵向侧边缘。该设备可包括通过通信网络与线扫描相机连接的分析器。在一些实施方案中,该设备可包括适于沿横向扩大线性视场的柱面透镜。分析器可被构造为现场可编程门阵列、专用集成电路、或图形处理单元。此外,线扫描相机还可包括像素数据线性阵列并可限定线性视场,其中线扫描相机被布置成使得线性视场沿纵向延伸。该设备还可包括照明线性视场的照明源。在操作中,沿纵向推进基底,使得第一纵向侧边缘行进穿过线性视场。继而,该设备可被构造成执行各种监测和/或控制功能。例如,分析器可被构造成基于来自来源于分析器的像素数据线性阵列的一组像素灰度值来确定基底的第一纵向侧边缘的位置。
将线扫描相机布置在与如下取向相反的取向上,相机在该取向上被设计成提供一组图像数据,由此x轴(通常表示横向CD空间维度)改为表示纵向MD位置的视角,并且由此y轴(通常表示纵向MD)转而变成时间轴。所得图像数据提供高保真位置对时间阵列,其能够以使能非常高速度的反馈控制的速率来更新。高速分析器诸如FPGA、ASIC、或GPU(它们不依靠操作系统)的加入使能并行处理从位置对时间阵列读取的大量的位置点。该FPGA或ASIC的确定性时钟还通过为高度精确的闭回路反馈控制提供低抖动和低延迟平台而有益于该方法。该FPGA的易于构造性还可通过如下方式有益于该方法:允许该系统相对廉价地更新并且快速适应于待控制的基底或部件的变化,诸如在机电式至静电式至气动式控制回路中,如2014年6月26日提交的且由代理人档案号13429P识别的名称为“MethodandApparatus for Transferring a Discrete Substrate”的美国专利申请中所公开。
如下文所更详述,该设备可被构造成带有多于一个具有沿纵向取向的视场的线扫描相机。例如,基底可为连续的或者可呈离散部件的形式。因此,当呈离散部件形式时,基底也可包括第一侧向侧边缘和与第一侧向侧边缘分开的第二侧向侧边缘以限定沿纵向的长度。因此,该设备可被构造成带有包括像素数据线性阵列并限定第一线性视场的第一线扫描相机和包括像素数据线性阵列并限定第二线性视场的第二线扫描相机。继而,第一线扫描相机和第二线扫描相机可被布置成使得第一线性视场和第二线性视场沿纵向延伸。在操作中,沿纵向推进基底,使得第一侧向侧边缘和第二侧向侧边缘行进穿过第一线性视场,并且使得第一侧向侧边缘和第二侧向侧边缘行进穿过第二线性视场。继而,将来自像素数据线性阵列的第一组像素灰度值从第一线扫描相机和第二线扫描相机传达给分析器,并且将来自像素数据线性阵列的第二组像素灰度值从第一线扫描相机和第二线扫描相机传达给分析器304。因此,分析器可基于至少两个像素的第一组灰度值和第二组灰度值来确定基底相对于纵向的取向。
应当理解,虽然本文的方法和设备可用于制造各种类型的产品,但下文在制造吸收制品的上下文中讨论本文的方法和设备。并且更具体地,在制造尿布的上下文中讨论该方法和设备。出于具体例证的目的,图1示出了一次性吸收制品100的一个实施例,诸如美国专利公布2008/0132865A1和2011/0247199A1中所述的呈尿布102形式的一次性吸收制品,该尿布可由在制造期间根据本文所公开的系统和方法监测和/或控制的基底和部件来构造。具体地,图1是包括基础结构104的尿布102的一个实施方案的平面视图,图中基础结构处于平放、未折叠状态,并且尿布102的朝向远离穿着者的部分朝向观察者。为了更清楚地示出尿布的构造和该尿布的实施方案中可能包括的各种特征结构的构造,图1中切除了基础结构的一部分。
如图1所示,尿布102包括基础结构104,该基础结构具有第一耳片106、第二耳片108、第三耳片110和第四耳片112。第一耳片106和第二耳片108在本文也可称为前耳片107。并且,第三耳片110和第四耳片112可称为后耳片111。后耳片111可用压力粘结部150与基础结构104连接,诸如图1所示。为了为本讨论提供参照系,将基础结构104与纵向轴线114和侧向轴线116一起示出。基础结构104被示出为具有第一腰区118、第二腰区120、和设置在第一腰区和第二腰区中间的裆区122。在一些构型中,第一腰区118可与前腰区相对应,并且第二腰区120可与后腰区相对应。尿布的周边由如下部分限定:一对纵向延伸的侧边124、126;与第一腰区118相邻的侧向延伸的第一外边缘128;和与第二腰区120相邻的侧向延伸的第二外边缘130。如图1所示,基础结构104包括内部的面向身体的表面132和外部的面向衣服的表面134。为了更清楚地示出尿布的构造和尿布中所可能包括的各种特征结构,图1截去了基础结构的一部分。如图1所示,尿布102的基础结构104可包括外覆盖层136,该外覆盖层包括顶片138和底片140。吸收芯142可设置在顶片138的一部分和底片140之间。如下文更详细地讨论,各区中的任何一个或多个可为可拉伸的,并且可包括如本文所述的弹性体材料或层合体。因此,尿布102能够在穿用时适形于具体穿着者的身体结构,并且在穿着期间保持与穿着者身体结构的配合。
该吸收制品还可包括如图1所示的腰围144形式的弹性腰部结构143,并且可以提高贴合性和对排泄物的容纳量。弹性腰部结构143可被构造成弹性地伸展和收缩以动态地贴合穿着者的腰部。弹性腰部结构143可并入到尿布中并且可至少从吸收芯142纵向向外延伸,并且一般形成尿布102的第一外边缘128和/或第二外边缘130的至少一部分。此外,弹性腰部结构可侧向延伸以包括耳片。尽管弹性腰部结构143或其任何组成元件可包括附接到尿布上的一个或多个独立元件,但弹性腰部结构可被构造为尿布的其它元件诸如底片140、顶片138或底片和顶片二者的伸出部。此外,弹性腰部结构143还可设置在基础结构104的外部面向衣服表面134上;设置在内部面向身体表面132上;或者设置在面向内的表面和面向外的表面之间。弹性腰部结构143可被构造为多种不同的构型,包括美国专利公布2007/0142806A1;2007/0142798A1;和2007/0287983A1中所述的那些,这些专利公布均据此以引用方式并入本文。
如图1所示,尿布102可包括腿箍146,该腿箍包括可提高对液体和其它身体流出物的容纳量。具体地,弹性衬圈腿箍可提供围绕穿着者大腿的密封效果以防止渗漏。应当理解,当尿布被穿着时,腿箍可被放置成与穿着者的大腿接触,并且该接触的程度和接触压力可部分地由尿布在穿着者的身体上的取向来确定。可将腿箍146以各种方式设置在尿布102上。
尿布102可以裤型尿布的形式提供,或作为另外一种选择可具有可重新闭合的扣紧系统,该系统可包括各种位置中的扣紧元件以帮助将尿布在穿着者身上保持固定。例如,紧固件元件148可被定位在第三耳片110和第四耳片112上,并且可适于可释放地与被定位在第一腰区或第二腰区中的一个或多个对应的紧固元件连接。应当理解,各种类型的扣紧元件均可用于尿布。
应当理解,本文所公开的系统和方法适用于与各种类型的转换加工工艺和/或机器一起工作。例如,图2A-图2C示出了吸收制品转换加工工艺的示意图,其包括用于监测沿纵向MD推进的基底200的检测设备或系统300。基底200可为连续基底202,其包括第一表面204和相反的第二表面206、以及第一纵向侧边缘208和沿横向CD与第一纵向侧边缘208分开的第二纵向侧边缘210。应当理解,基底200可为连续的或者可呈离散部件212的形式,诸如下文参照图4A-4C和其它图所讨论的。因此,当呈离散部件212的形式时,基底200也可包括第一侧向侧边缘214和与第一侧向侧边缘214分开的第二侧向侧边缘216以限定沿纵向的长度。还应当理解,可使用各种基底200来构造吸收制品的各种部件,诸如底片、顶片、耳片、腿箍、弹性腰部结构、和吸收芯。上文参照图1提供了对此类吸收制品部件的示例性描述。
重新参考图2A-图2C,检测系统300可被构造成与转换加工生产线交互作用、监测和/或控制转换加工生产线。在一些构型中,一个或多个传感器302可与转换加工生产线和/或推进的基底200相邻布置,并且可与分析器304通信。基于此类通信,分析器304可监测并影响转换加工生产线上的各种操作。例如,分析器304可基于与传感器302的通信向转换加工生产线发送各种类型的控制命令。在一些实施方案中,控制命令可呈传达给剔除系统的剔除命令的形式。在一些实施方案中,控制命令可为合适形式的用以增大或减小基底推进速度的命令和/或用以沿横向CD重新定位基底的命令。
出于本讨论的目的,分析器304为现场可编程门阵列(FPGA)、专用集成电路(ASIC)、或图形处理单元(GPU)。FPGA的实施例可包括National Instruments PCIe-1473R、National Instruments PXIe-1435、带有FLIXRIO FPGA模块的National Instruments1483R、Altera Stratix II、Altera Cyclone III、Xilinx Spartan 6、Xilink Vertex 6或Vertex 7。GPU的实施例可包括GeForce GTX 780(Ti)、Quadro K6000、Radeon R9 295X2和Radeon HD 8990。
应当理解,分析器304也可被构造成与一个或多个计算机系统通信,诸如,可编程逻辑控制器(PLC)和/或运行软件并且适于在EthernetIP网络上通信的个人计算机(PC)。一些实施方案可利用工业化可编程控制器,诸如Siemens S7系列、Rockwell ControlLogix、SLC或PLC 5系列、或Mitsubishi Q系列。前述实施方案可使用运行控制算法诸如RockwellSoftLogix或National Instruments Labview的个人计算机或服务器,或可为任何其它装置,该装置能够接收来自传感器的输入、基于此类输入执行计算并且通过伺服电动机控制装置、电致动器或电动气动致动器、电动液压致动器、以及其它致动器产生控制动作。工艺和产品数据可直接存储在前述计算机系统中,或者可被定位在单独的数据历史库中。在一些实施方案中,历史库为该控制器中的单个数据表。在其它实施方案中,历史库可为关系数据库或单个数据库。常见的历史库应用包括Rockwell Automation Factory TalkHistorian、General Electric Proficy Historian、OSI PI、或可由Oracle、SQL或多种数据库应用中的任一种构造的任何客户历史库。还应当理解,分析器304可被构造成与各种类型的控制器和检测传感器通信,该控制器和检测传感器是以各种方式构造的并且带有各种算法以提供各种类型的数据并执行各种功能,例如美国专利5,286,543;5,359,525;6,801,828;6,820,022;7,123,981;8,145,343;8,145,344;和8,244,393;和欧洲专利EP 1 528907 B1中所公开,这些专利均以引用方式并入本文。
如图2A-图2C和图3所示,检测系统300包括被构造为线扫描相机306的检测传感器302,该线扫描相机具有像素数据线性阵列308并限定线性视场310。此外,线扫描相机306是相对于推进的基底200布置的,使得线性视场310沿纵向MD延伸。应当理解,可使用光电探测器阵列来收集像素数据线性阵列308。因此,应当理解,线扫描相机306可为带有像素数据阵列308的任何合适的相机,其在一个维度上比在另一个维度上具有显著更多的像素。在一些实施方案中,阵列308可为一维的。如图4所示,阵列308可包括各种数目的像素,诸如像素1至像素n。用于线扫描相机的示例性阵列尺寸可包括例如1x1024像素和1x2048像素。应当理解,线扫描相机306可包括多于一个像素宽的像素阵列。例如,线扫描相机306可具有沿横向CD布置的两个像素,因而可使用诸如平均、分段或累加之类的计算方法来生成源于那两个像素的单个数据点。还应当理解,线扫描相机306可为焦平面阵列,其被构造成利用沿纵向MD延伸的邻近像素或不连续像素的阵列。由于所述一维像素阵列的缘故,线扫描相机306可具有大致线性的视场310,该视场被布置成沿基底200所推进的方向(被示出为纵向MD)延伸。
可使用的线扫描相机306的实施例包括Basler Runner;Dalsa Spyder Series,诸如Dalsa Spyder 3Gig E Vision Camera;DVT 540LS智能相机;和COGNEX 5604智能相机。应当理解,不同的应用可利用对不同频带敏感的线扫描相机306。例如,不同的线扫描相机306可在可见光、紫外线和/或红外线范围内为敏感的。此外,线阵列传感器也可被认为是如本文所述的线扫描摄像机。例如,可使用Tichawa接触式图像传感器。
应当理解,线扫描相机306的视场310可由图像阵列的尺寸和成像光学器件307确定,诸如图3A-3C所示。因此,可选择成像光学器件以将视场310聚焦到推进的基底200上。可使用任何合适的光学部件,包括例如购自NAVITAR和SCHNEIDER OPTICS的透镜。在一些构型中,视场310可通过使与线扫描相机306相关联的透镜散焦来扩大。在一些构型中,视场310可通过应用球面透镜、柱面透镜、和/或反射镜来扩大。
重新参考图2A-图2C,分析器304可通过通信网络312与线扫描相机306通信。因此,应当理解,分析器304可物理地被定位成靠近推进的基底200和/或线扫描相机306,并且/或者可被定位在另一个位置处并经由有线网络和/或无线网络312与线扫描相机306通信。在一些实施方案中,通信网络312被构造为非确定性通信网络,例如,Ethernet或Ethernet IP(工业协议)通信网络。
继续参考图2A-图2C,检测设备或系统300也可包括照明源314,该照明源被构造成限定照明线性视场310和推进的基底200的一部分的照明场316。应当理解,照明场316的外周边或轮廓可或可不精确地对应于视场310。在一些实施方案中,照明场316可照明包括视场310之外的推进的基底的区域。此外,还应当理解,检测系统300可被构造成使得照明场316和视场310被定位在推进的基底200的相同的表面上或被定位在推进的基底200的相反表面上。例如,如图2A-图2C所示,照明源314可被构造成背光照明推进穿过视场310的基底200的一部分。更具体地,线扫描相机306可被定位成与推进的基底200的第一表面204相邻,并且第一表面204的一部分可沿纵向MD推进穿过视场310。此外,照明源314还可被定位成与推进的基底200的第二表面206相邻,并且基底200的第二表面206的一部分可在推进穿过照明场316期间被照明。在其它构型中,图2A-图2C所示的照明源314可连同扫描相机306一起被定位成与推进的基底200的第一表面204相邻。因此,基底200的第一表面204的部分在推进穿过照明场316和视场310期间可直接由照明源314照明。
应当理解,照明源314可以各种方式来构造。例如,照明源314可包括线灯,诸如发光二极管(LED)线灯。此类灯的实施例包括ADVANCED ILLUMINATION IL068、购自METAPHASE的各种线灯、购自VOLPI的各种线灯诸如型号60023、以及购自CCS AMERICA,INC.的各种线灯。在一些实施方案中,照明源314可包括用纤维束和/或面板耦接以照明视场316的卤素光源或其它光源。其它示例性照明源314构型可包括耦接到纤维束的卤素光源或其它光源。例如,卤素光源可包括购自SCHOTT的那些,并且纤维束和/或面板可包括购自SCHOTT和/或FIBEROPTICS TECHNOLOGY INC.的那些。此外,照明源314还可被构造成发出在任何合适频率范围内的光,包括例如紫外线、可见光和/或红外线。
应当理解,对系统300进行构造以最小化必要的像素数目和操作数目可提供更快的系统响应。因此,期望仅使用沿横向CD的单个数据点来重新构造基底200的纵向侧边缘208,210的横向CD位置和取向。因此,纵向侧边缘208,210的CD位置可通过如下方式来重新构造:当单个数据点的值对应于被基底200影响的区域与背景区域309相比的百分比时,分析该点的灰度大小。如先前所提及的,可通过使与线扫描相机306相关联的透镜307散焦来沿横向CD扩大视场310,诸如图3A-图3C所示。因此,由于该散焦方法的缘故,可使来自单个像素的数据代表沿横向CD的相对宽的区域。为了进一步说明本方法,下文参照图3A-图3C示例性地说明了利用灰度大小来重新构造基底200的纵向侧边缘208,210的横向CD位置和取向。
图3A为示意性框图,示出了与像素数据线性阵列308中的百分比灰度值关联的基底200的横向CD位置的一个例证,该像素数据线性阵列具有标号为1至17的17个像素数据点。出于本示例性例证的目的,假设基底200为相对黑暗的并且背景309为相对明亮的。因此,随着视场310的相对较大部分被基底200阻挡,像素阵列308感测到相对较低的灰度值。相反地,随着视场310的相对较小部分被基底200阻挡,像素阵列308感测到相对较高的灰度值。如图3A所示,基底200部分地覆盖视场310的与像素数据点3-7对应的区域,而视场310的未覆盖的区域与像素数据点1,2和8-17对应。因此,像素数据点1,2和8-17可具有100%的灰度值。继而,像素数据点3-7可具有X%的灰度值,其中X小于100,如图3A所示的对应的直方图311所示。
类似于图3A,图3B示出了基底200部分地覆盖视场310的与像素数据点3-7对应的区域,而视场310的未覆盖的区域与像素数据点1,2和8-17对应。然而,图3B所示的基底200相对于图3A所示的视场310和基底是沿横向CD偏移的。因此,与如图3A所示的情况相比,图3B中的基底200部分地覆盖视场310的与像素数据点3-7对应的相对较大区域。因此,在图3B中,像素数据点1,2和8-17可具有100%的灰度值。继而,像素数据点3-7可具有Y%的灰度值,其中Y小于100,并且其中Y小于X,如图3B所示的对应的直方图311所示。
在类似于图3A的另一个实施例中,图3C示出了基底200部分地覆盖视场310的与像素数据点3-8对应的区域,而视场310的未覆盖的区域与像素数据点1,2和9-17对应。然而,图3C所示的基底200相对于图3A所示的视场310和基底是沿横向CD偏移和倾斜的。因此,与如图3A所示的情况相比,图3C中的基底200部分地覆盖视场310的与像素数据点3-8对应的不同尺寸的区域。因此,在图3C中,像素数据点1,2和9-17可具有100%的灰度值。继而,像素数据点3-8可分别具有A%,B%,C%,D%,E%和F%的灰度值,其中A,B,C,D,E和F均小于100。此外,A,B,C,D和E的相对值可使得A>B>C>D>E,如图3C所示的对应的直方图311所示。并且F也可大于A,B,C,D和E。因此,基底200相对于纵向MD或横向CD的取向可通过分析灰度值的比降来确定。
继续参考图3A-图3C,为了计入不均匀的表面特征或不透明度,如果该系统不能够产生分别对应于基底200和背景309的基本上缺省的(0%)和饱和的(100%)灰度值,则作为初始步骤,对该数据进行二值化可为必要的。由于光功率在视场310上的高斯分布,对于基底200的位置,可能需要反高斯函数或查找表(LUT)来线性化像素数据。可使用校正的灰度百分比范围来确定纵向侧边缘208在视场内的位置。校正的灰度百分比范围的实施例可为0至65535(对于16位传感器);0至4095(对于12位传感器);和0至255(对于8位传感器)。应当理解,可利用进一步的分析将已知形状拟合至像素数据的梯度并确定基底200的纵向侧边缘的取向。
在图3A-图3C的实施例中,纵向边缘208被示出为直线,因此可使用单个线拟合来确定该取向。在其中纵向侧边缘208限定复杂形状的构型中,可利用卷积或迭代LUT方法来拟合该数据并确定该取向。
为了向上文对图2A-图2C和图3A-图3C的检测系统构型的讨论提供附加上下文,下文描述了本文的检测系统和工艺的示例性具体实施。
例如,图4为连续基底202的详细的视图,示出了沿纵向MD推进穿过线扫描相机306的线性视场310的第一表面204的部分和第一纵向侧边缘208的部分。因此,线扫描相机306将来自像素数据线性阵列308的多组像素灰度值传达给分析器304。继而,分析器可被构造成基于至少一个像素的灰度值来确定关于推进的基底200的各种信息,例如,第一纵向边缘208的位置和/或推进的基底200的速度。
在一个实施例中,参照图4,随着基底200,202沿纵向MD推进,线扫描相机306可将来自像素数据线性阵列308的第一组像素灰度值传达给分析器304。因此,分析器可基于至少一个像素的灰度值来确定第一纵向侧边缘208的第一位置。在一些构型中,第一纵向侧边缘208的第一位置可与第一纵向侧边缘208相对于纵向MD的角取向对应。在一些构型中,第一纵向侧边缘208的第一位置可与相对于固定位置的横向CD位置对应。继而,分析器304可被构造成将第一纵向侧边缘208的第一位置与目标位置进行比较。在一些构型中,分析器304也可被构造成控制各种单元操作以在确定第一纵向侧边缘208的第一位置之后重新定位第一纵向侧边缘208。因此,分析器304可被构造成传达控制命令以通过改变第一纵向侧边缘208相对于纵向MD的角取向来重新定位第一纵向侧边缘208。在一些构型中,分析器304可被构造成传达控制命令以通过沿横向CD移动基底208来重新定位第一纵向侧边缘208。
继续参考图2A-图2C和图3,随着基底200继续沿纵向MD推进,线扫描相机306可将来自像素数据线性阵列308的第二组像素灰度值传达给分析器304。因此,分析器304可基于至少一个像素的灰度值来确定第一纵向侧边缘208的第二位置。在一些构型中,分析器304也可基于第一位置和第二位置来计算基底202的速度。
在另一个实施例中,图4A-图4C示出了呈离散部件212形式的基底200的详细的视图,并示出了沿纵向MD推进穿过线扫描相机306的线性视场310的第一表面204的部分、第一纵向侧边缘208的部分、第一侧向侧边缘214的部分和第二侧向侧边缘216的部分。基底被取向成使得第一侧向侧边缘214为前缘,并且第二侧向侧边缘216为后缘。以类似于上述讨论的方式,线扫描相机306将来自像素数据线性阵列308的多组像素灰度值传达给分析器304。继而,分析器可被构造成成基于至少一个像素的灰度值来确定关于推进的基底200的各种信息,例如,第一纵向边缘208的位置和/或侧向侧边缘214,216的位置和/或推进的基底212的速度。应当理解,可修改图4A-图4C所示的构型使得第一侧向侧边缘214和第二侧向侧边缘216沿纵向MD推进穿过线扫描相机306的线性视场310,而第一纵向侧边缘208不推进穿过线性视场310。
继续参考图4A,基底200,202可沿纵向MD推进,并且线扫描相机306可将来自像素数据线性阵列308的第一组像素灰度值传达给分析器304。因此,分析器可基于至少一个像素的灰度值来确定第一纵向侧边缘208的第一位置和/或侧向侧边缘214,216的第一位置。在一些构型中,第一纵向侧边缘208的第一位置和/或侧向侧边缘214,216的第一位置可对应于第一纵向侧边缘208和/或侧向侧边缘214,216相对于纵向MD的角取向。在一些构型中,第一纵向侧边缘208的第一位置和/或侧向侧边缘214,216的第一位置可与相对于固定位置的横向CD位置对应。
图4B示出了基底200,212沿纵向MD从图4A处继续推进。如图4B所示,与如图4A所示的情况相比,基底200相对于纵向MD和横向CD的取向略有不同。因此,在图4B中,线扫描相机306可将来自像素数据线性阵列308的第二组像素灰度值传达给分析器304。因此,分析器304可基于至少一个像素的灰度值来确定第一纵向侧边缘208的第二位置和/或侧向侧边缘214,216的第二位置。继而,分析器304可被构造成比较第一纵向侧边缘208的第二位置和/或侧向侧边缘214,216的第二位置与目标位置。如先前所提及的,分析器304也可被构造成控制各种单元操作以在确定第一纵向侧边缘208的第二位置和/或侧向侧边缘214,216的第二位置之后重新定位第一纵向侧边缘208和/或侧向侧边缘214,216。因此,分析器304可被构造成传达控制命令以通过改变第一纵向侧边缘208和/或侧向侧边缘214,216相对于纵向MD或横向CD的角取向来重新定位第一纵向侧边缘208和/或侧向侧边缘214,216。在一些构型中,分析器304可被构造成传达控制命令以通过沿横向CD移动基底212来重新定位第一纵向侧边缘208和/或侧向侧边缘214,216。例如,图4C示出了在基底212相对于纵向MD和横向CD的取向已被恢复到基本上相同的取向(如图4A所示)之后基底200,212沿纵向MD从图4B处继续推进。
虽然附图所示的基底200具有基本上直的纵向侧边缘208,210和侧向侧边缘214,216,但应当理解,基底200可具有除所示出的形状和尺寸之外的各种形状和尺寸。例如,无论是呈连续基底202的形式还是离散部件212的形式,基底200可包括具有相同长度或不同长度的弯曲的和/或不平行的纵向侧边缘208,210。此外,呈离散部件212形式的基底200还可包括具有相同长度或不同长度的弯曲的和/或不平行的侧向侧边缘214,216。
如先前所提及的,检测系统300可以各种方式来构造,并包括多于一个分析器304、线扫描相机306、和/或照明源314。例如,图6A和6B示出了检测系统300,其被构造成带有第一线扫描相机306a和第二线扫描相机306b。每个线扫描相机306a,306b均包括像素数据线性阵列308并限定线性视场310。在一些实施方案中,可通过构造焦平面阵列来获得多个线扫描相机306以将基本上线性的像素子组用于每个视场310。此外,线扫描相机306a,306b是相对于推进的基底200布置的,使得每个线性视场310沿纵向MD延伸,如上文参照图2A-图2C所讨论。图6A和图6B所示的检测设备或系统300也可包括第一照明源314a和第二照明源314b。第一照明源314a可被构造成限定照明场316,该照明场照明第一线扫描相机306a的线性视场310以及推进的基底200的一部分。并且第二照明源314a可被构造成限定照明场316,c该照明场照明第二线扫描相机306b的线性视场310以及推进的基底200的一部分。
应当理解,图6A和图6B所示的检测系统300的构型可适于以各种方式来操作。例如,图7A-图7C示出了呈离散部件212形式的推进的基底200和相关联的第一表面204、第一纵向侧边缘208、第一侧向侧边缘214和第二侧向侧边缘216的详细的视图。如图6A所示,第一表面204的部分、第一纵向侧边缘208的部分、第一侧向侧边缘214的部分和第二侧向侧边缘216的部分沿纵向MD推进穿过第一线扫描相机306a的线性视场310。并且第一表面204的部分、第二纵向侧边缘210的部分、第一侧向侧边缘214的部分、和第二侧向侧边缘216的部分沿纵向MD推进穿过第二线扫描相机306b的线性视场310。基底被取向成使得第一侧向侧边缘214为前缘,并且第二侧向侧边缘216为后缘。
以类似于上述讨论的方式,每个线扫描相机306a,306b均可将来自像素数据线性阵列308的多组像素灰度值传达给分析器304。继而,分析器304可被构造成基于至少一个像素的灰度值来确定关于推进的基底200的各种信息,例如,纵向侧边缘208,210的位置和/或侧向侧边缘214,216的位置和/或推进的基底212的速度。应当理解,可修改图7A-图7C所示的构型,使得第一侧向侧边缘214和第二侧向侧边缘216沿纵向MD推进穿过第一线扫描相机306a的线性视场310,而第一纵向侧边缘208不推进穿过第一线扫描相机306a的线性视场310。并且第一侧向侧边缘214和第二侧向侧边缘216可沿纵向MD推进穿过第二线扫描相机306b的线性视场310,而第二纵向侧边缘210不推进穿过第二线扫描相机306b的线性视场310。
继续参考图7A,基底200,212可沿纵向MD推进,并且第一线扫描相机306a可将来自像素数据线性阵列308的第一组像素灰度值传达给分析器304。此外,第二线扫描相机306b可将来自像素数据线性阵列308的第一组像素灰度值传达给分析器304。因此,分析器可基于至少一个像素的灰度值来确定纵向侧边缘208,210的第一位置和/或侧向侧边缘214,216的第一位置。在一些构型中,纵向侧边缘208,210的第一位置和/或侧向侧边缘214,216的第一位置可与纵向侧边缘208,210和/或侧向侧边缘214,216相对于纵向MD或横向CD的角取向对应。在一些构型中,纵向侧边缘208,210的第一位置和/或侧向侧边缘214,216的第一位置可与相对于固定位置的横向CD位置对应。
图7B示出了基底200,212沿纵向MD从图7A处继续推进。如图7B所示,与如图7A所示的情况相比,基底200相对于纵向MD和横向CD的取向略有不同。因此,在图7B中,每个线扫描相机306a,306b均可将出自像素数据线性阵列308的第二组像素灰度值传达给分析器304。因此,分析器304可基于至少一个像素的灰度值来确定纵向侧边缘208,210的第二位置和/或侧向侧边缘214,216的第二位置。继而,分析器304可被构造成将纵向侧边缘208,210的第二位置和/或侧向侧边缘214,216的第二位置与目标位置进行比较。如先前所提及的,分析器304也可被构造成控制各种单元操作以在确定纵向侧边缘208,210的第二位置和/或侧向侧边缘214,216的第二位置之后重新定位纵向侧边缘208,210和/或侧向侧边缘214,216。因此,分析器304可被构造成传达控制命令以通过改变纵向侧边缘208,210和/或侧向侧边缘214,216相对于纵向MD或横向CD的角取向来重新定位纵向侧边缘208,210和/或侧向侧边缘214,216。在一些构型中,分析器304可被构造成传达控制命令以通过沿横向CD移动基底212来重新定位纵向侧边缘208,210和/或侧向侧边缘214,216。例如,图7C示出了在基底212相对于纵向MD和横向CD的取向已被恢复到基本上相同的取向(如图7A所示)之后基底200,212沿纵向MD从图7B处继续推进。
本文所公开的量纲和数值不应被理解为严格限于所述确切数值。相反,除非另外指明,否则每个这样的量纲旨在表示所述值以及围绕该值功能上等同的范围。例如,公开为“40mm”的量纲旨在表示“约40mm”。
除非明确地排除或换句话讲有所限制,本文中引用的每一篇文献,包括任何交叉引用或相关专利或专利申请以及本申请对其要求优先权或其有益效果的任何专利申请或专利,均据此全文以引用方式并入本文。任何文献的引用不是对其相对于任何本发明所公开的或本文受权利要求书保护的现有技术的认可,或不是对其单独地或以与任何其它参考文献或多个参考文献的组合提出、建议或公开了此类发明的认可。此外,如果此文献中术语的任何含义或定义与以引用方式并入本文的文献中相同术语的任何含义或定义相冲突,将以此文献中赋予该术语的含义或定义为准。
虽然已经举例说明和描述了本发明的具体实施方式,但是对于本领域技术人员来说显而易见的是,在不脱离本发明实质和范围的情况下可作出多个其他改变和变型。因此,本文旨在于所附权利要求中涵盖属于本发明范围内的所有这些改变和变型。
Claims (15)
1.一种用于制造吸收制品的方法,所述方法包括以下步骤:
提供线扫描相机(306),所述线扫描相机包括像素数据线性阵列(308)并限定线性视场(310);
提供分析器(304),所述分析器选自由以下项组成的组:现场可编程门阵列、专用集成电路和图形处理单元;
布置所述线扫描相机(306),使得所述线性视场(310)沿纵向延伸;
操作照明源(314)以限定照明所述线性视场(310)的照明场(316);
提供基底(200),所述基底包括第一表面(204)和相反的第二表面(206),所述基底(200)还包括第一纵向侧边缘(208)和沿横向与所述第一纵向侧边缘(208)分开的第二纵向侧边缘(210);
沿所述纵向推进所述基底(200),使得所述第一纵向侧边缘(208)行进穿过所述线性视场(310);
将来自所述像素数据线性阵列(308)的第一组像素灰度值从所述线扫描相机(306)传达给所述分析器(304);以及
基于至少一个像素的所述灰度值来确定所述第一纵向侧边缘(208)的第一位置。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一纵向侧边缘(208)的所述第一位置与所述第一纵向侧边缘(208)相对于所述纵向的角取向对应。
3.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一纵向侧边缘(208)的所述第一位置与相对于固定位置的横向位置对应。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,所述方法还包括用柱面透镜沿所述横向扩大所述线性视场(310)的步骤。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,所述方法还包括将所述第一纵向侧边缘(208)的第一位置与目标位置进行比较的步骤。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中使用光电探测器阵列来收集所述像素数据线性阵列(308)。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中沿所述纵向推进所述基底(200)的所述步骤还包括推进所述第一表面(204)的一部分穿过所述线性视场(310),并且其中操作所述照明源的所述步骤还包括照明所述第一表面(204)和所述第二表面(206)中的一者的一部分。
8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,所述方法还包括如下步骤:在确定所述第一纵向侧边缘(206)的所述第一位置之后,重新定位所述第一纵向侧边缘(206)。
9.根据权利要求8所述的方法,其中重新定位所述第一纵向侧边缘(206)的所述步骤还包括改变所述第一纵向侧边缘(206)相对于所述纵向的角取向。
10.根据权利要求8所述的方法,其中重新定位所述第一纵向侧边缘(206)的所述步骤还包括沿所述横向移动所述基底(200)。
11.根据权利要求8所述的方法,所述方法还包括以下步骤:
将来自所述像素数据线性阵列(308)的第二组像素灰度值从所述线扫描相机(306)传达给所述分析器(304);以及
基于至少一个像素的所述灰度值来确定所述第一纵向侧边缘(206)的第二位置。
12.根据权利要求11所述的方法,所述方法还包括基于所述第一位置和所述第二位置来计算所述基底(200)的速度的步骤。
13.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述基底(200)还包括离散部件(212),所述离散部件包括第一侧向侧边缘(214)和第二侧向侧边缘(216)。
14.根据权利要求13所述的方法,所述方法还包括基于至少一个像素的所述灰度值来确定所述第一侧向侧边缘(214)的第一位置的步骤。
15.根据权利要求13所述的方法,其中所述第一侧向侧边缘(214)包括前缘,并且其中所述第二侧向侧边缘(216)包括后缘。
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